プロセスガス分析装置
スパッタープロセスモニター SPM220
PFEIFFER_VACUUM

Overview

■スパッタプロセス中の水分をppbレンジまでトレース可能。
■分析室の残留ガス成分の影響を最小限に抑える特殊構造と、感度劣化の影響を受けづらく、
   長時間の安定測定が可能な測定方法。
■反応性スパッタを含む代表的なスパッタプロセス測定ルーチンがプリセットされています。

SPM220 ・プロセスコントロール用差動排気型質量分析計
・標準で1Pa、オプションで100Paまでの圧力対応。
・導入プロセスガスの純度・不純物の測定
・イオン化電圧40eV採用により二価イオンを抑制
・プロセス圧力でイオン化する独自構造のイオンソースにより、
  分析チャンバー内の水分等残留ガスによる影響を排除
・プロセスガスの変化に高速応答
・ppbレンジまでのワイドダイナミックレンジ
・最小2msの高速スキャン
・90°偏向型コントローラを採用。省スペース。
・汎用OPC通信によるデータ転送プロトコル採用
・Microsoft社 Visual Studio Tools for Applicationsに
  よるオリジナル測定プログラムの作成が可能

■スパッタ圧力下で測定対象ガスを直接イオン化
フィラメント部を含めたマスフィルター部がオリフィスで差動排気されており、測定対象のスパッタ圧力と雰囲気に保たれた
イオン化室でイオン化されます。
そのため従来の差動排気システムと比較して、検出されるイオンのほとんどがスパッタプロセス中の成分となり、
マスフィルターが置かれた分析室内の残留成分の影響を受けず、ppbレベルの微量な不純物まで高精度にモニター可能です。

■Ar二価イオンのH2Oへの影響を抑制
特にArスパッタの場合、その同位体成分である36Arの二価イオンがH2Oと同じ位置の18amuにピークとして現れ、
H2Oの検出限界を悪くしてしまいます。
SPM220はイオン化の電子エネルギーを小さくすることにより、その影響を抑制し、H2O成分をppbレベルまでモニター可能にしました。

Double Charged Ar

■長時間の安定測定
常に全ガス量に対しての比率で測定されるため、感度劣化の影響を受けにづらく、長時間に渡り安定した測定ができます。

Stability

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注)測定データ画面は旧SPM200の画面を使用しています。

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